密集矩形掩膜版梳妝掩模版光學掩膜板高精定制激光精密

密集矩形掩膜版梳妝掩模版光學掩膜板高精定制激光精密切割
主要采用高精度激光切割和焊接工藝來制備掩模板。
按照目前的工藝條件，特點如下，供大家參考。
1.性價比高的是在0.2mm厚度的304不銹鋼鋼板上激光加工0.4mm(400um)，鏤空（挖孔）0.4mm(400um)，尺寸公差是±20um，速度較快，成本相對較低。
2.高精度激光加工可以制作線寬0.05mm(50um)的叉指電極掩膜版，實體部分誤差30um，空隙部分誤差20um，請合理考慮誤差，并根據誤差情況，設計好自己的圖案結構，圖案結構設計合理，能事半功倍。價格相對較貴。
3.超高精度的激光加工可以制作線寬0.04mm(40um)的掩膜版，誤差15um，價格貴。
掩模板可以應用于電子束蒸發，熱蒸發，磁控濺射等設備中，用來制備opv、oled、鈣鈦礦太陽能電池，光電探測器，場效應晶體管等各種器件圖形化薄膜和電極。
備注：一般來說，激光加工制備出來的掩模板/掩膜版更光滑，平整度更好，適合在熱蒸發鍍膜機中蒸鍍電極，掩模板有凹槽設計，一般都會打磨，但是滿足正常的實驗需要一般都沒有問題。有特殊要求的客戶一定要提前說明。
請買家盡量提供cad圖紙，如果實在不能提供，請提供可以準確描述掩模板規格的草圖。
華諾激光梁經理，竭誠為您服務！