磁控濺射鍍膜設備報價-磁控濺射鍍膜設備-沈陽鵬程真空技術公司

濺射鍍膜
濺射鍍膜就是在真空中利用荷能粒子轟擊靶表面，使被轟擊出的粒子沉積在基片上的技術。通常，磁控濺射鍍膜設備報價，利用低壓惰性氣體輝光放電來產生入射離子。陰*靶由鍍膜材料制成，基片作為陽*，真空室中通入0.1-10pa的氣或其它惰性氣體，在陰*（靶）1-3kv直流負高壓或13.56mhz的射頻電壓作用下產生輝光放電。電離出的離子轟擊靶表面，磁控濺射鍍膜設備，使得靶原子濺出并沉積在基片上，形成薄膜。濺射方法很多，主要有二級濺射、三級或四級濺射、磁控濺射、對靶濺射、射頻濺射、偏壓濺射、非對稱交流射頻濺射、離子束濺射以及反應濺射等。
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雙靶磁控濺射鍍膜機的特點有哪些？
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產品特點
1：此款鍍膜儀配置有兩個靶：一個靶配套的是射頻電源，用于非導電靶材的濺射鍍膜；一個靶配套的是直流電源，磁控濺射鍍膜設備多少錢，用于導電材料的濺射鍍膜
2：該鍍膜儀可以制備多種不同材料的薄膜，應用非常廣泛。
3：該鍍膜儀體積較小，磁控濺射鍍膜設備價格，且配備有觸摸屏控制面板，操作方便。
臥式磁控濺射鍍膜機
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主要用途：
用于納米級單層及多層功能膜、硬質膜、金屬膜、半導體膜、介質膜等新型薄膜材料的制備。廣泛應用于大專院校、科研院所的薄膜材料科研與小批量制備。
系統組成:
主要由真空室系統濺射室、靶及電源系統、樣品臺系統、真空抽氣及測量系統、氣路系統、控制系統、電控系統、計算機控制系統及輔助系統等組成。
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